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清溢光电:使用DUV光刻机生产高规产品会增加掩膜版使用量
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清溢光电:使用DUV光刻机生产高规产品会增加掩膜版使用量
2024-04-30 21:27:00
清溢光电
4月30日在互动平台表示,使用DUV光刻机生产高规产品会增加掩膜版使用量,但不会机械式增加太多,具体增加数量依据客户自身工艺而定。
(文章来源:界面新闻)
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